ASML公司近日宣布，其首席執(zhí)行官Christophe Fouquet在2024年第四季度財(cái)報(bào)電話會(huì)議上透露了一個(gè)重要消息：首臺(tái)第二代0.55 (High) NA EUV光刻機(jī)TWINSCAN EXE:5200即將以“早期工具”的身份發(fā)貨，用于技術(shù)成熟度驗(yàn)證。這一消息標(biāo)志著ASML在EUV光刻技術(shù)方面又邁出了重要一步。
EXE:5200是ASML對(duì)現(xiàn)有初代High NA EUV光刻機(jī)EXE:5000的改進(jìn)版本。Christophe Fouquet表示，EXE:5200在設(shè)計(jì)和性能上都進(jìn)行了優(yōu)化，使其更適合大批量生產(chǎn)。而EXE:5000作為High NA EUV光刻技術(shù)的先驅(qū)，主要用于技術(shù)的開發(fā)和驗(yàn)證。
據(jù)悉，EXE:5200預(yù)計(jì)將擁有更高的晶圓吞吐量，相比EXE:5000的每小時(shí)185片以上，其生產(chǎn)效率將進(jìn)一步提升。同時(shí)，EXE:5200還支持更為精細(xì)的后2nm邏輯半導(dǎo)體工藝，這對(duì)于滿足未來半導(dǎo)體市場(chǎng)的需求具有重要意義。
除了EXE:5200，ASML的0.33 (Low) NA EUV光刻機(jī)也取得了顯著進(jìn)展。Christophe Fouquet透露，最新型號(hào)NXE:3800E已在工廠實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)220片的設(shè)計(jì)晶圓吞吐量。這一數(shù)字不僅比NXE:3800E初期的185片有所提升，更比前一代NXE:3600D高出37.5%。這一提升主要得益于NXE:3800E在結(jié)構(gòu)上的改進(jìn)和優(yōu)化。
ASML的光刻系統(tǒng)一直以來都備受業(yè)界關(guān)注，其技術(shù)的不斷迭代和升級(jí)也推動(dòng)了半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。此次EXE:5200和NXE:3800E的發(fā)布，無疑將進(jìn)一步提升ASML在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。
