近期，國際科技界傳來一則重要消息，荷蘭高端光刻機制造商ASML公司正式宣告，其最新研發(fā)的EUV光刻機型號EXE:5200即將面世并交付客戶。這款機器相較于前任型號，性能有了顯著提升，但據(jù)稱將不會對中國企業(yè)開放銷售。
據(jù)悉，EXE:5200是在初代High NA EUV光刻機EXE:5000的基礎(chǔ)上進行了全面升級。其最大的亮點在于晶圓吞吐量的激增，每小時可輕松處理超過185片晶圓，這對于2nm工藝的大規(guī)模生產(chǎn)無疑是一大利好。
早在之前，ASML就已宣布，業(yè)界首臺TWINSCAN EXE:5200光刻機已被英特爾訂購。這款光刻機不僅擁有高數(shù)值孔徑，而且晶圓處理能力超過每小時200片，標(biāo)志著0.55 NA EUV技術(shù)的又一重大突破。TWINSCAN EXE:5000與EXE:5200均裝備了0.55數(shù)值孔徑的透鏡，相較于之前0.33數(shù)值孔徑的透鏡，精度實現(xiàn)了質(zhì)的飛躍，為更小尺寸的晶體管功能提供了前所未有的高分辨率。
ASML公司強調(diào)，EUV 0.55 NA技術(shù)旨在從2025年起，應(yīng)用于多個未來的技術(shù)節(jié)點，并逐步推廣至類似密度的內(nèi)存技術(shù)中。這一技術(shù)的推出，無疑將為半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展注入新的活力，推動芯片制造邁向更高水平。
