英特爾公司近日宣布，其位于加利福尼亞州圣何塞的工廠已正式啟用ASML公司提供的首批兩臺(tái)先進(jìn)光刻機(jī)。據(jù)初步數(shù)據(jù)顯示，這兩款新型光刻機(jī)在可靠性方面顯著優(yōu)于之前的機(jī)型。
在圣何塞舉行的一次會(huì)議上，英特爾高級(jí)首席工程師史蒂夫·卡森透露，公司已經(jīng)利用ASML的高數(shù)值孔徑（NA）光刻機(jī)在一個(gè)季度內(nèi)成功生產(chǎn)了30,000片晶圓。這些晶圓是制造計(jì)算機(jī)芯片的關(guān)鍵原材料，每片晶圓能產(chǎn)出成千上萬(wàn)的芯片。值得注意的是，英特爾是全球第一家接收并使用這些新型光刻機(jī)的芯片制造商，預(yù)計(jì)這些設(shè)備將幫助公司生產(chǎn)出尺寸更小、速度更快的計(jì)算芯片。
卡森進(jìn)一步指出，ASML的新型高數(shù)值孔徑光刻機(jī)在初步測(cè)試階段就展現(xiàn)出了令人矚目的可靠性，大約是舊款機(jī)型的兩倍。他強(qiáng)調(diào)說(shuō)：“我們能夠以穩(wěn)定的速率生產(chǎn)晶圓，這對(duì)于整個(gè)生產(chǎn)平臺(tái)來(lái)說(shuō)無(wú)疑是一個(gè)巨大的優(yōu)勢(shì)。”
新型ASML光刻機(jī)采用先進(jìn)的光束打印技術(shù)，能夠在更少的曝光次數(shù)下完成與舊款機(jī)器相同的工作，從而有效節(jié)省生產(chǎn)時(shí)間和成本。據(jù)卡森介紹，英特爾工廠的早期測(cè)試結(jié)果顯示，高NA光刻機(jī)僅需一次曝光和個(gè)位數(shù)的處理步驟，就能完成舊款機(jī)器需要三次曝光和約40個(gè)處理步驟的工作。
這一進(jìn)步對(duì)于英特爾來(lái)說(shuō)具有重要意義，因?yàn)楣驹诓捎蒙弦淮鷺O紫外（EUV）光刻機(jī)方面曾落后于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。過(guò)去，英特爾花費(fèi)了七年時(shí)間才將舊款光刻機(jī)投入全面生產(chǎn)，而可靠性問(wèn)題則使其失去了對(duì)臺(tái)積電的領(lǐng)先地位。此次新型光刻機(jī)的引入，標(biāo)志著英特爾在芯片制造技術(shù)領(lǐng)域邁出了重要的一步。
英特爾計(jì)劃利用高NA光刻機(jī)推動(dòng)其18A制造技術(shù)的開(kāi)發(fā)，該技術(shù)預(yù)計(jì)將于今年晚些時(shí)候與新一代PC芯片一同投入大規(guī)模生產(chǎn)。同時(shí)，公司還計(jì)劃在其下一代制造技術(shù)14A中全面使用高NA光刻機(jī)，但尚未公布該技術(shù)的大規(guī)模生產(chǎn)日期。隨著這些新型光刻機(jī)的投入使用，英特爾有望在未來(lái)進(jìn)一步提升其芯片制造技術(shù)的競(jìng)爭(zhēng)力。
